熱場發射環境掃描電鏡
日期：2024-12-17 | 訪問量：
生產廠家：美國FEI
設備型號：Quanta FEG 450
安放地點：昌平創新園南樓102
負責人：段曉鴿
聯系電話：010-62332598-6102
主要功能：
該設備綜合場發射電鏡高分辨和ESEM環境掃描電鏡適合樣品多樣性的優勢，適用對各種樣品表面形貌、成分、取向等進行高分辨的觀察和分析，包括導電樣品、不導電樣品、含水含油樣品、放氣樣品、加熱樣品、冷卻樣品等。除了對樣品進行靜態觀察之外，還可對樣品進行動態過程的觀察和分析，如樣品脫水、增濕、加熱、凝固等過程。廣泛應用于金屬材料、無機非金屬材料、冶金、汽車、生物、醫學、刑偵技術等研究開發領域。
主要技術參數：
真空模式：高真空模式、低真空模式、環境真空模式
分辨率：1.0nm@30kV（高真空模式）
1.4nm@30kV（低真空模式）
1.4nm@30kV（環境真空模式）
放大率：10×～1,000,000×
加速電壓：0.2kV～30kV
探針電流：最大200nA
樣品臺：行程：X=Y=100mm；Z=60mm
旋轉：360°連續
傾斜：-5°～+70°
配置：
1.探測器
ETD：二次電子探頭（高真空模式）
LFD：二次電子探頭（低真空模式）
GSED：二次電子探頭（環境掃描模式）
BSED：背散射電子探頭
2.X射線能譜儀（EDS）
型號： TEAM EDS（EDAX）
能量分辨率：125eV@MnKα
探測元素范圍：Be4-U92
3.電子背散射衍射（EBSD）分析系統
型號： Hikari XP（EDAX）
取向精度：優于0.1°
采集速度：650 Hz（點/秒）
4.熱臺
溫度范圍：23℃-1500℃
加熱速度：≤50℃/min
溫度控制精度：~25℃
冷卻：循環水冷
氣體類型：水蒸氣、空氣、氮氣、其他氣體
實驗室預約 ：