ZEISS場發射掃描電鏡
生產廠家：德國ZEISS
設備型號：ULTRA 55
安放地點：昌平創新園南樓102
負責人：段曉鴿
聯系電話：010-62332598-6102
主要功能：
該設備可以觀察和檢測微米、納米級樣品的表面形貌特征和成分、取向測試分析。其最大特點是具備超高分辨掃描圖像觀察能力，尤其是采用最新數字化圖像處理技術，提供高倍數、高分辨掃描圖像，是納米材料粒徑測試和形貌觀察最有效儀器，也是研究材料結構與性能關系所不可缺少的重要工具。廣泛用于生物學、醫學、金屬材料、高分子材料、化工原料、地質礦物、商品檢驗、產品生產質量控制、寶石鑒定、考古和文物鑒定及公安刑偵物證分析。
主要技術參數分辨率：1.0nm @ 15kV
放大率：12×～ 900,000×（SE）
加速電壓：0.1kV～30kV
探針電流：4pA～20nA
樣品室：330mm（內徑）×270mm（高）
樣品臺：行程：X=Y=130mm；Z=50mm
旋轉：360°連續（馬達驅動）
傾斜：-3°～ +70°（馬達驅動）
配置：
1.探測器：
In-lens內置式二次電子探測器
E-T二次電子探測器
EsB電子槍內置式能量選擇型背散射電子探測器
AsB角度選擇型背散射電子探測器
2.X射線能譜儀（EDS）
型號： INCA X-MAX 50（Oxford Instruments）
能量分辨率：129eV@MnKα
探測元素范圍：Be4-U92
3.電子背散射衍射（EBSD）分析系統
型號：HKL Nordlys F+（Oxford Instruments）
空間分辨率：優于50nm
標定速度：600Hz（點/秒）
4.原位拉伸臺
型號：Mtest 2000ES（Gatan）
最大載荷：2000N
力測試精度：載荷級別的1%
拉伸速度：0.033 - 0.4mm/min
試件可拉伸距離：≤10mm
實驗室預約 ：